本工具是一款专业的 蒸汽压控制温差液相外延法 (VP-TD-LPE) 辅助设计系统。 支持 InP基材料 GaAs基材料 HgCdTe红外材料 等多种半导体体系。 智能计算 过冷度、源区温度 及 生长时间, 帮助您快速生成高质量的液相外延生长工艺方案。
通过控制挥发性组分的蒸汽压,抑制源溶液的挥发,从而精确控制溶液的饱和度。
利用源区与衬底区之间的温度差建立过冷度,驱动材料在衬底表面进行外延生长。
过冷度通常由源区温度和生长温度的差值决定,本工具会根据材料特性推荐最佳范围。
支持InP、GaAs、GaSb等多种标准半导体衬底,请在输入框中注明衬底晶向。