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本工具是一款专业的 AI抗蚀剂组成分析工具, 专注于研究 乙烯基聚合物 与 光致抗蚀剂 组成对 干蚀刻敏感度 的影响。 智能分析材料参数,生成优化建议,显著提升您的 半导体光刻工艺效率。
包含聚合物主体、光敏剂、溶剂和添加剂,需准确描述各成分的比例和特性。
应包含蚀刻气体、流量、温度、压力、射频功率等关键参数。
建议提供详细的组成和工艺条件,以获得更准确的分析结果。
可根据报告中的建议调整组成和工艺条件,优化抗蚀剂性能。