AI 精密光学曝光系统模拟

本工具是一款高效的 精密光学曝光系统模拟器，支持半导体光刻 PCB曝光全息成像等多种场景。基于光学衍射原理与成像算法，快速计算 能量分布 与焦深，助力您优化工艺参数。

参数配置

1 积分

曝光类型

半导体制造

PCB电路板

UV胶固化

全息成像

MEMS加工

3D光固化

项目名称

光学参数 / 工艺条件 0 字

模拟结果

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光学曝光工艺规范

分辨率 R = k1 * λ / NA。优化波长与数值孔径是提升成像质量的关键。

DOF = k2 * λ / NA²。高数值孔径下焦深急剧减小，需精密调焦系统配合。

基于标量衍射理论模型，提供接近实际光刻效果的能量分布估算，适合工艺预研。

支持 g-line, i-line, KrF, ArF 以及 EUV 等常见波长的参数输入与计算。