本工具是一款专业的 高纯钼中痕量杂质元素光谱分析 系统, 支持 ICP-OES ICP-MS GDMS 等多种先进光谱技术。 通过智能算法处理原始光谱数据,快速识别并定量计算 痕量杂质元素(如 Fe、Si、Ni 等), 帮助您生成符合实验室标准的 杂质分析报告。
高纯钼具有复杂的发射光谱,需利用基体匹配法或标准加入法消除光谱干扰。
针对不同杂质元素(如 Pb, Sn, Sb 等),需确保方法检测限(LOD)满足 99.95% 或更高纯度标准。
适用于分析 Fe, Si, Ni, Cu, Cr, Al 等常见金属及非金属杂质。
建议使用国家标准物质(如 GBW 0xxx)进行校准曲线验证。