本工具是一款专业的 恒定光电导(CPM)分析助手, 专为 非晶硅薄膜 微晶硅 等半导体材料的次带吸收特性研究设计。 基于恒定光电导测量原理,辅助计算 吸收系数 α(E) 与 缺陷态密度, 是您研究 Urbach 能量 和 带隙态 的得力科研助手。
通过调节入射单色光的光子能量和通量,保持样品的光电导恒定,从而推导出不同能量下的吸收系数。
专注于带隙以下的吸收区域,分析带尾态和缺陷态密度,评估薄膜的有序度和光电性能。
适用于非晶硅、微晶硅等非晶/微晶半导体薄膜材料的次带隙态研究。
分析结果基于输入数据,建议提供精确的厚度和光通量参数以获得最佳估算。